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【第一參賽人/留學(xué)人員】王士京
【留學(xué)國家】日本
【技術(shù)領(lǐng)域】高端裝備與新能源汽車
【參賽屆次】第10屆
【所獲獎項】二等獎
【項目簡介】
光刻膠灰化是芯片加工中一個重要的步驟，從成熟工藝到先進工藝都離不開有機物掩膜的灰化（比如光刻膠灰化）這道工藝，此外隨著制造工藝技術(shù)節(jié)點的不斷推進，在灰化的同時，對離子轟擊導(dǎo)致的表面損傷要求越來越高。目前國內(nèi)外加工廠所用主流的灰化刻蝕設(shè)備有Mattson,PSK,Lam等。前述幾個公司的關(guān)鍵技術(shù)主要掌握在國外團隊手中，零部件國產(chǎn)化率低。本項目產(chǎn)品是全新的12寸灰化蝕刻機，新型反應(yīng)機理，在完全去除有機物掩膜的同時，最大程度地減少底層材料表面狀態(tài)的損傷，實現(xiàn)超低損傷的蝕刻性能。目前項目產(chǎn)品300A/300E在成熟和先進節(jié)點得到了廣泛應(yīng)用。
【展開】
【收起】